当前位置:首页 > 超声波清洗机清洗芯片的方法及流程

超声波清洗机清洗芯片的方法及流程

[导读]随着集成电路特征尺寸进入到深亚微米阶段,集成电路芯片制造工艺中所要求的芯片表面的洁净度越来越高,为了保证芯片材料表面的洁净度,集成电路的制造工艺中存在数百道清洗工艺。另一种清洗方式是采用超声波清洗机清洗,昆山舒美超声仪器有限公司指出。

该芯片表面的清洗方法依次包括以下步骤:

预清洗:用去离子水利用超声波清洗机对芯片进行预清洗,去离子水的温度为50~60度,具体地,该超声波的功率为30W,频率为50KHz。

碱洗:芯片置于碱性溶液中利用超声波进行清洗,碱性溶液的温度为80~90度,较佳地,该碱性溶液可为氢氧化钠溶液,浓度为2%~5%,清洗时间为5~10分钟,在此步骤中,氢氧化钠溶液的温度不宜过高,如20~25度为佳。超声波的功率为20W,频率为40KHz。

有机溶剂清洗:芯片置于异丙醇和水的混合液中利用超声波进行清洗,时间为5~10分钟,超声波的功率在20~30W,频率为40KHz~50KHz。该步骤可有效溶剂去除芯片表面的有机残留物。

酸洗:配制柠檬酸和去离子水的混合液,混合液的pH值为5~6。芯片被置于到该酸性溶液中,借助超声波振荡清洗技术,使芯片表面快速进行中和反应。

去离子水漂洗:用去离子水漂洗该芯片,漂洗时间为20~30分钟,经过漂洗,芯片表面的酸液、碱液等清洗液残留被漂洗干净。

碳氢清洗:在上一步的去离子水中加入碳氢溶剂,继而排除去离子水。

热焓干燥:将芯片从清洗溶液中取出并进行热焓干燥,该工序利用温度压力的变化,降低芯片上的焓值,使残留液快速蒸发。

相关文章

人妻少妇偷人精品视频